品名：紫外線光清洗燈

 品牌：SBR

 類型：U型紫外光清洗燈管      型號：SUV90U            特殊照明：紫外線光

 管徑（D）：17.5                  管莊（V）：130±5       電流（MA）：800

 功率（W）：90                     弧長：（mm）455       安裝長度（mm）：530

二十世紀九十年代后期，我國的信息技術和產業以驚人的速度飛速發展，特別是平板顯示技術的高速發展，LCD顯示屏由TN級向STN和TFT不斷提升，新型的OLED顯示產品也開始進入市場。由此，對制備工藝過程表面質量要求越來越嚴格，紫外光表面清洗技術的優越性已經得到廣泛認可，UV光清洗機的需求量正在不斷增長。

一、紫外光表面清洗和改質的工作原理

   低壓紫外汞燈發射的雙波段短波紫外光照射到試件表面后，與有機污染物發生光敏氧化作用,不僅能去除污染物而且能改善表面的性能，從而提高物體表面的浸潤性和粘合強度，或者使材料表面得到穩定的表面性能。根據不同需要，既可以對物體進行紫外光表面清洗，也可以進行紫外光表面改質（或叫表面改善），紫外光表面清洗和改質的機理有相同點，但也有區別。

  1.1 紫外光清洗工作原理

    VUV低壓紫外汞燈能同時發射波長254nm和185nm的紫外光，這兩種波長的光子能量可以直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵，使有機物分子活化，分解成離子、游離態原子、受激分子等。與此同時，185nm波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個光敏氧化反應過程是連續進行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會不斷的生成和分解，活性氧原子就會不斷的生成，而且越來越多，由于活性氧原子（O）有強烈的氧化作用，與活化了的有機物（即碳氫化合物）分子發生氧化反應，生成揮發性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而徹底清除了粘附在物體表面上的有機污染物。

1.2 紫外光改質工作原理

  低壓紫外汞燈發射的185nm和254nm波長的紫外光除有清洗去除物體表面的有機污染物的功能外，而且還能夠進行表面改質。其基本原理為：光子能量把物體的表層分子鍵打開的同時拉出H原子和C原子，與空氣中的氧氣分解出來的活性氧（O）生成極性很強的原子團（OH，CHO，COOH）即羥基等活性基，同時材料表面有機污染物的清洗效果顯著，活化的基體表面具有良好的粘合力和鍵合特性，這些羥基和涂料、粘合劑、電鍍材料相結合，形成新的化學鍵，從而使材料表面得到通常情況下得不到的很強的粘結強度，或者使材料得到穩定的表面性能。

二、紫外光表面清洗和改質技術的先進性

  2.1光清洗技術是隨著當代光電子信息技術發展起來的，光電子產品的高性能、微型化要求表面潔凈度越來越高，常規的清洗方法（如水洗、化學溶液洗、超聲波清洗等）已不能滿足要求，UV光清洗能夠達到常規的清洗方法難以達到的高清潔度，而且不存在三廢處理問題，有利于環境保護。

  2.2光清洗是在常溫、常壓的環境中進行的，是一種非接觸式的干法清洗技術。光清洗時被清洗的表面除了光子，不與任何物體發生接觸，因為有機物經過紫外光照射發生光敏氧化反應后，生成可揮發性氣體（CO2、CO、H2O等）從表面消散，隨著排風系統抽走，不可能重返被清洗的表面，不會像溶液清洗時發生二次污染。

  2.3一般情況下，光清洗的表面不會受到損傷，由于光子的能量相對比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會受到損傷或發生晶體缺陷的現象。

 2.4光清洗對物體表面微細部位（如孔穴、微細溝槽等）具有有效而徹底的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為細微的部位，發生光敏氧化反應，充分表現出光清洗的徹底性。

  2.5世界上先進工業化國家已經開始將光清洗技術由光電產品向金屬、光學、塑料、橡膠等相關產品的生產過程發展，光清洗技術的應用范圍十分廣闊，具有很強的技術生命力。

三、光清洗技術的應用范圍

   光清洗技術的應用范圍十分廣泛，目前在現代信息技術行業中使用光清洗技術比較普遍，隨著我國工業現代化的發展，光清洗和光改質技術還將逐步應用于金屬、塑料、橡膠等工業生產領域。

3.1在LCD、OLED生產中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經過光清洗，可以極大的提高基體表面潤濕性，增強基體表面的粘合力；

3.2印制電路板生產中，對銅底板，印刷底板進行光清洗和改質，在導線焊接前進行光清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連接強度。特別是高精度印制電路板，當線距達到亞微米級時，光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒，可以大大提高印制電路板的質量。

3.3大規模集成電路的密度越來越高，晶格的微細化越來越密，要求表面的潔凈度越來越高，光清洗可以有效地實現表面的原子清潔度，而且對芯片表面不會造成損傷。

3.4在半導體生產中，硅晶片涂保護膜、鋁蒸發膜前進行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發生。

3.5在光盤的生產中，沉積各種膜前作光清洗準備，可以提高光盤的質量。

3.6磁頭固定面的粘合，磁頭涂敷，以及提高金屬絲的連接強度，光清洗后效果更好。

3.7石英晶體振蕩器生產中，除去晶體檢測后涂層上的墨跡，晶體在銀蒸發沉積前，進行光清洗可以提高鍍膜質量和產品性能。

3.8在IC卡表面插裝ROM前，經過光清洗可提高產品質量。

3.9彩色濾光片生產中，光清洗后能徹底洗凈表面的有機污染物。

3.10敷銅箔層壓板生產中，經過光照改質，不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護氧化層，產品質量顯著提高。

3.11光學玻璃經過紫外光清洗后，鍍膜質量更好。

3.12樹脂透鏡光照后，能加強與防反射板的粘貼性。

3.13對清除石蠟、松香、油脂、人體體油、殘余的光刻膠、環氧樹脂、焊劑，以及帶有氧化膜的金屬表面處理，去除導電聚酰亞胺粘合劑上的有機污染物，光清洗是十分有效的方法。